تاخیر ۶ ماهه در تولید تراشه‌های سه نانومتری TSMC با گسترش بیماری کرونا

تاخیر ۶ ماهه در تولید تراشه‌های سه نانومتری TSMC با گسترش بیماری کرونا

در حالی که گفته شده تولید تراشه‌های TSMC با لیتوگرافی سه نانومتری به مدت ۶ به تاخیر افتاده است؛ اما وقفه‌ای در تولید تراشه‌های پنج نانومتری به وجود نیامده است.

تراشه‌های سه نانومتری TSMC
تراشه‌های سه نانومتری TSMC

طبق گزارش‌هایی که از تایوان به گوش می‌رسد، شرکت TSMC ظرفیت تولید تراشه‌هایی با فرآیند تولید لیتوگرافی پنج نانومتری را به حداکثر رسانده است و گویا بیماری کرونا نیز روی روند تولید تراشه‌های جدید تاثیری نخواهد گذاشت. با این حال، تولید تراشه‌هایی با لیتوگرافی سه نانومتری این شرکت به تاخیر خواهد افتاد.

شرکت TSMC تقریبا تمامی برنامه‌های خود را تغییر داده است و با ایجاد تاخیر شش‌ماهه در تولید تراشه‌های سه نانومتری، ظرفیت تولید انبوه تراشه‌های پنج نانومتری را به حداکثر رسانده است؛ البته امکان دارد تولید تراشه‌های سه نانومتری شرکت TSMC با تاخیر بیشتری نیز مواجه شود. دلیل این امر نیز اختصاص یافتن اکثر تجهیزات کارخانه‌های TSMC به تولید تراشه‌های پنج نانومتری است.

علاوه بر موارد ذکرشده، گسترش بیماری کرونا و درنتیجه خودقرنطینگی کارکنان شرکت‌ها و تعطیلی بسیاری از کارخانه‌ها در سراسر دنیا به‌تاخیر افتادن تولید تراشه‌های شرکت TSMC کمک فراوانی می‌کند. با این حساب انتظار می‌رود که روند تولید تراشه‌های سه نانومتری TSMC از دسامبر سال ۲۰۲۰ شروع شود.

در حال حاضر انتظار می‌رود که تراشه‌های TSMC با لیتوگرافی سه نانومتری به سال ۲۰۲۲ موکول شود و تا قبل از آن شاهد عرضه چنین محصولی به بازار نباشیم. روند تولید و آزمایش تراشه‌های سه نانومتری نیز در کارخانه‌ای از شرکت تایوانی صورت می‌گیرد که وظیفه تولید و آزمایش تراشه‌های پنج نانومتری را به عهده دارد. گزارش‌ها نشان می‌دهد که دو فاز از کارخانه به تولید تراشه‌های پنج نانومتری و دو فاز دیگر نیز به تولید تراشه‌های سه نانومتری اختصاص یافته است.

تراشه 5 نانومتری شرکت TSMC

مقامات شرکت TSMC می‌گویند که تراشه‌های پنج نانومتری این شرکت در مرحله‌ای از تولید قرار داشته است که شیوع بیماری کرونا نتوانسته روی روند تولید آن تاثیری بگذارد. در فرآیند تولید تراشه‌های پنج نانومتری از لیتوگرافی به وسیله اشعه ماوراء بنفش یا EUVL استفاده می‌شود. در این فرآیند که از روش‌های تصویرگیری پرتوافکنی به حساب می‌آید، اشعه‌ای با طول موج بین ۱۳/۴ تا ۱۳/۵ نانومتر به بیش از ۱۰ لایه از تراشه تابانده می‌شود. استفاده از چنین فرآیندی به کاهش هزینه تولید تراشه می‌انجامد و همچنین زمان تولید نیز کاهش می‌یابد.

درنهایت به این نکته باید اشاره کرد که محصولاتی مجهز به تراشه‌های ساخته‌شده با فرآیند لیتوگرافی پنج نانومتری طبق برنامه وارد بازار خواهند شد؛ اما به‌نظر می‌رسد ۶ ماه یا شاید بیشتر با زمان عرضه محصولات قدرت‌گرفته از تراشه‌های سه نانومتری شرکت TSMC طبق برنامه قبلی فاصله خواهیم داشت.